• UNIPOL-802 기계는 8"의 아주 평탄한 랩핑 plate로 갖추어져 있으며 직경 3"까지의 세라믹 기판 및 반도체 기판, 결정 성분 및 폴리싱을 위한 고정밀 랩핑 기계로서 사용될 수 있다. 이 장비는 또한 금속 샘플을 준비하기 위한 전형적인 grinding 및 폴리싱 기계로도 사용될 수 있다. 포함된 편평한 샘플 용기(3구멍 금속 샘플 용기(옵션), 정밀 thinning 설비(옵션)와 결합시키면 Unipol 802는 다양한 샘플을 자동적으로 랩핑 및 폴리싱 할 수 있다.
  • 5 micron씩 감소하는 정밀 회전출
  • 2.5 micron/inch2의 평평함과 함께 2개의 super flat 랩핑 plate
  • 랩핑용 iron 접시 주형 1개와 폴리싱용 알루미늄 plate 주조물 1개
  • 내구성이 강한 주형 알루미늄 용기
  • 2개의 흔들 작업대
  • 디지털 화면과 변동 가능한 속도 조절기 : from 0~125 rpm
  • 99시간까지 자동 멈춤을 위한 조절가능 타이머
  • 자동 폴리싱을 위한 자동 슬러리 주입기 및 정밀 폴리싱 설치물 (옵션)